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  • GMD2000橡膠抗氧劑高速乳化分散機

    橡膠抗氧劑高速乳化分散機機配合橡膠抗氧劑的生產:將原始粒徑15-30nm的抗氧劑顆粒倒入一定配比的去離子水中,加入表面活性劑和組分A,攪拌10min至物料全部均勻無大的團聚顆粒,將配好的液體倒入分散機中,打4-6遍,即可得到D50粒徑約300nm的均勻水性抗氧劑。

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    2024-09-05

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  • GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機

    磷酸氫鈣高剪切分散機采用*設計,便于清洗,對表面進行高質量處理,防止其對食品醫藥產生不利影響,該設備還符合CIP和SIP的清潔標準,能更好的實現在線清洗,提高工作效率,確保產品安全。

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    2024-09-05

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  • GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機

    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、均質和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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    2024-09-05

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  • GMD2000醇類硅溶膠高剪切研磨分散機

    醇類硅溶膠高剪切研磨分散機可以處理量大,運轉更平穩,拆裝更方便,適合工業化在線連續生產,粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*

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    2024-09-04

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  • GMD2000石墨烯片層機械剝離分散機

    石墨烯片層機械剝離分散機可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

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    2024-09-04

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  • GMD2000/4濃香芝麻油高剪切研磨分散機

    濃香芝麻油高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2024-09-02

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  • GMD2000氟橡膠氧化鎂研磨分散機

    氟橡膠氧化鎂研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • GMD2000無機彩色顏料研磨分散機

    無機彩色顏料研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2024-09-02

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